易度MFC助力真空行业流量控制长期稳定
真空镀膜设备中，MFC的稳定性直接关系到工件的镀膜质量。易度MFC采用层流压差测量原理，长期运行零漂小，不易污染堵塞，流量控制精准快速，能适用硅烷、乙炔、氢气、氩气、氮气等多种气体，可提升各类型PVD、CVD设备的镀膜质量。
低温漂低压漂 长期运行稳定 多种通讯方式 抗干扰能力强
更多场景应用
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真空磁控溅射镀膜
真空蒸发镀膜
真空离子镀膜
等离子体增强CVD(PECVD)
金属有机CVD(MOCVD)
原子层沉积(ALD)
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服务优势
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原理优势
领先的层流原理，产品精度高、稳定性高、响应速度快
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技术优势
14年的技术积累，核心器件完全自主研发，定制性强，适应性宽
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应用优势
行业龙头客户长期批量使用，各种应用工况经验丰富
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服务优势
1小时及时响应，24小时方案呈现，货期短，服务灵活性强